欧洲反击美国芯片战:限制旧设备也无济于事?
ASML首席执行官Christophe Fouquet向TechCrunch透露,中国目前只能购买大约十年前推出的深紫外光刻设备,而美国新提出的MATCH法案将进一步禁止这些旧设备的出口。这一举措标志着欧洲在美国对华芯片战争中开始展现自主立
ASML首席执行官Christophe Fouquet向TechCrunch透露,中国目前只能购买大约十年前推出的深紫外光刻设备,而美国新提出的MATCH法案将进一步禁止这些旧设备的出口。这一举措标志着欧洲在美国对华芯片战争中开始展现自主立
本期《每日下载》聚焦两大科技热点:ASML价值4亿美元的新一代High NA EUV光刻机,体积堪比双层巴士,将推动芯片制程突破1纳米以下;同时,AI公司Anthropic与政府监管矛盾激化,引发行业对AI安全与创新的深度反思。
这台价值4亿美元的巨型机器,重达150吨,体积堪比双层巴士,内部密布着精密铣削铝件、数千根管路和加压罐。荷兰ASML公司技术主管Jos Benschop爬梯登上这台下一代高数值孔径EUV光刻机,它将是未来3纳米以下芯片制造的核心。本文深度解
美国方面近日声称,荷兰光刻机巨头ASML最先进的极紫外(EUV)光刻设备可能已落入中国手中,但ASML迅速否认,称其严格遵守出口管制。这一争议背后,既有商业逻辑的考量:ASML若违规将面临吊销出口许可证的巨大风险,也有地缘政治博弈的复杂性。
ASML首席执行官Christophe Fouquet在出席米尔肯研究院全球会议前接受专访,谈及公司无可争议的市场垄断地位。他身着蓝色西装,在比佛利山庄酒店屋顶露台轻松回应竞争话题,强调ASML凭借EUV光刻机数十年的技术积累和深度客户绑定
ASML确认其高数值孔径(High-NA)EUV光刻机已准备好进入大规模生产,这标志着半导体行业向2nm以下节点的跃进正式启动。作为全球EUV设备垄断供应商,ASML的这一突破将为英特尔、台积电等巨头提供关键工具,推动下一代AI芯片的制造。