在深圳华为总部的一间会议室里,被业界称为“芯片女皇”的何庭波正在描绘一幅与众不同的未来图景。作为华为海思半导体部门的掌门人,她近日在一次内部会议上发表演讲,直言不讳地指出:摩尔定律的终结并非芯片创新的终点,而是新赛道的起点。这一表态迅速引发全球半导体行业的高度关注。
摩尔定律的黄昏与华为的选择
自1965年戈登·摩尔提出集成电路上可容纳的晶体管数目约每两年翻一番的规律以来,摩尔定律一直指导着芯片产业的演进。然而,随着制程工艺逼近1纳米物理极限,量子隧穿效应和功耗爆增使得传统缩微化路径愈发艰难。台积电、三星等巨头在3纳米、2纳米制程上的投入已达天文数字,但性能提升幅度却逐年递减。
华为的选择是:与其在传统赛道上与对手硬拼,不如开辟新战场。何庭波在演讲中提出“后摩尔时代三大创新支柱”:系统级芯片架构重构、异构计算融合、以及光电混合集成技术。她强调,华为将不再单纯追求晶体管密度的提升,而是通过硬件软件协同设计、芯片间互联效率优化等手段,实现整体计算能力的跃升。
“我们不是在追赶摩尔定律,而是在超越它。”——何庭波
“芯片女皇”的底气从何而来?
何庭波在半导体行业深耕超过30年,全程参与了华为从通信设备商到芯片设计巨头的转型。她主导研发的麒麟系列芯片曾一度与高通骁龙并驾齐驱,而华为自研的昇腾AI芯片更是在算力上媲美英伟达产品。尽管美国自2019年起对华为实施多轮技术封锁,导致其无法使用先进EDA工具和IP,但华为并未停滞。相反,海思在2024年推出了完全基于RISC-V架构的服务器芯片,并成功量产了采用自研EDA工具设计的14纳米芯片。
更重要的是,华为正积极推动“芯片-系统-应用”垂直整合。何庭波透露,华为已与多家国内晶圆厂合作,开发不依赖极紫外光刻(EUV)的新型制造工艺,例如纳米线晶体管和三维堆叠技术。这些技术虽然不能直接匹敌3纳米制程,但在特定场景(如物联网、边缘计算)中能实现更优的能效比。
对美国芯片霸权的冲击
美国的芯片优势建立在两大基石之上:一是对先进制造设备和EDA软件的垄断,二是通过《芯片法案》吸引全球顶尖制造商赴美设厂。然而,华为的“绕道超车”策略直击这两大基石的软肋。如果华为能够在非传统制程上实现突破,美国主导的供应链封锁将失去意义。
更令华盛顿担忧的是,华为的实践可能催生一个完全独立的“中国芯片生态”。一旦中国的RISC-V生态成熟、国产EDA工具达标、且先进封装技术跟上,美国及其盟友将难以继续通过出口管制遏制中国半导体进步。事实上,华为联合中芯国际等企业已在上海、北京等地建立了数条去美化的芯片试产线,虽然良率仍有差距,但进展速度超出多数分析师的预期。
编者按:新游戏规则正在形成
何庭波的豪言并非空穴来风。历史上,日本东芝在1980年代凭借存储器技术动摇美国半导体地位,韩国三星随后在存储器和代工领域两线作战。如今华为试图在“后摩尔时代”另立标准,这不仅是技术路线的竞争,更是全球科技秩序重塑的缩影。美国若继续沉迷于传统制程的领先地位,可能忽视那些潜力巨大的“非主流”创新。而中国庞大的内需市场和举国体制的协同效应,正是华为敢于下注的底气所在。
当然,挑战依然严峻。华为的EDA工具尚不能支撑大规模数字芯片流片,先进封装所需的高端设备仍依赖日本和荷兰供应商,且国内高端人才缺口巨大。但正如何庭波所言:“当老路走到尽头时,走新路的人最有可能成为领跑者。”这场芯片战争,远未结束。
本文编译自WIRED
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